首先定性地說明一下，在進行透鏡蒸發鍍膜時候為什么蒸發的空間需要抽真空.其原因如下，

　　1)防止在高溫下因空氣分子和蒸發源源發生反應，生成化合物而使蒸發源劣化。

　　2) 防止因蒸發物質的分子在真空室內與空氣分子碰撞而阻礙蒸發分子直接打到透鏡基材表面，和在途中生成化合物或者由于蒸發分子間的相互碰撞而在到達透鏡基材之前就凝聚等。

　　3)防止在透鏡基材上形成薄膜的過程中，空氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜中形成化合物。